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背景介紹
隨著科技不斷進步，人們對材料性能的要求也越來越高。然而，在極端溫度條件下，很多材料的性能會發生變化。因此，研究材料在高溫下的行為變得尤為重要。近年來，超高溫原位XRD裝置在材料科學研究中的應用越來越廣泛，為揭示材料變化的秘密提供了重要的工具。
技術原理
超高溫原位XRD裝置利用X射線衍射技術，通過測量材料中X射線的散射模式來確定材料的結構和相變行為。超高溫原位XRD裝置具有高溫穩定性，能夠在極端溫度下進行測量，確保材料在高溫下的變化過程真實可靠。
實驗應用
超高溫原位XRD裝置目前在物理、化學、材料科學以及各種工程技術科學中得到了廣泛的應用。
1200℃原位XRD高溫池
合肥原位科技有限公司多年來潛心研發原位XRD技術，突破各項技術壁壘，現推出1200℃原位XRD高溫池，應用于常壓、高溫氣固相化學反應的原位XRD測試與表征。
基本參數
① 池體材質：哈氏合金C276(內嵌陶瓷)/SUS316電鍍(內嵌陶瓷);
② 窗口：進口PI膜/鈹窗;
③ 控溫精度：±0.1℃;
④ 溫度均勻性：±1℃;
⑤ 池體外表面溫度：≤40℃;
⑥ 氣氛：可通氣氛;
⑦ 水冷配置：1200W循環水冷機;
⑧ 溫控配置：焦耳加熱電源系統，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件);
基本配置
加熱系統：產生高溫并與樣品臺及樣品臺內樣品進行有效熱交換;
氣管及接頭：用于客戶端氣路連接;
溫控系統：便于對反應池 內樣品溫度進行控制;
冷卻循環系統、1200W循環水冷機：通過低溫循環冷卻 液對反應池殼進行冷卻降溫處理。(高溫 XRD 反應池及其附件工作溫度為室溫-1200℃。)
